Beschreibung
HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) is a relatively new highly ionized sputtering technique used to deposit engineering quality thin films, with the advantage that the deposition flux can be guided to the substrate through the electrical biasing. As the technique is on the verge of being...
Produktdetails
| Einband |
Taschenbuch |
|---|---|
| Erscheinungsdatum |
19.05.2014 |
| Verlag | Scholar's Press |
| Seitenzahl |
212 |
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